Matriisiaineiden vaikutus näytteensyöttöön ja plasman ominaisuuksiin ICP-OES -tekniikassa
Heilala, Bryan (2016-05-03)
Heilala, Bryan
B. Heilala
03.05.2016
© 2016 Bryan Heilala. Tämä Kohde on tekijänoikeuden ja/tai lähioikeuksien suojaama. Voit käyttää Kohdetta käyttöösi sovellettavan tekijänoikeutta ja lähioikeuksia koskevan lainsäädännön sallimilla tavoilla. Muunlaista käyttöä varten tarvitset oikeudenhaltijoiden luvan.
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi:oulu-201605101663
https://urn.fi/URN:NBN:fi:oulu-201605101663
Kokoelmat
- Rajattu saatavuus [10647]