Requirements for UV-based nanoimprint lithography

Hytönen, Elina (2023-06-20)
 
Avaa tiedosto
Lataukset: 

Rajoitetun näkyvyyden opinnäytteet ovat luettavissa vain OuluREPO-työasemilla: https://oulurepo.oulu.fi/handle/10024/5
Hytönen, Elina
E. Hytönen
20.06.2023
© 2023 Elina Hytönen. Tämä Kohde on tekijänoikeuden ja/tai lähioikeuksien suojaama. Voit käyttää Kohdetta käyttöösi sovellettavan tekijänoikeutta ja lähioikeuksia koskevan lainsäädännön sallimilla tavoilla. Muunlaista käyttöä varten tarvitset oikeudenhaltijoiden luvan.
Näytä kaikki kuvailutiedot
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi:oulu-202306212691
Kokoelmat