Tilastollinen prosessinohjaus: perusteet ja menetelmät

Lähteenmäki, Mika; Leiviskä, Kauko (2004-09-21)
 
Avaa tiedosto
Lataukset: 


Lähteenmäki, Mika
Leiviskä, Kauko
University of Oulu
21.09.2004
Tämä Kohde on tekijänoikeuden ja/tai lähioikeuksien suojaama. Voit käyttää Kohdetta käyttöösi sovellettavan tekijänoikeutta ja lähioikeuksia koskevan lainsäädännön sallimilla tavoilla. Muunlaista käyttöä varten tarvitset oikeudenhaltijoiden luvan.
Näytä kaikki kuvailutiedot
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:ISBN:9514275209
Tiivistelmä

Tiivistelmä

Tämä raportti on projektin "SPC:n ja älykkäiden menetelmien soveltaminen elektroniikkateollisuudessa" ensimmäinen osaraportti. Projektin tavoitteena on tutkia älykkäiden tietämysjärjestelmien ja SPC:n hyväksikäyttöä elektroniikan tuotannossa. Hankkeen rahoittaa Tekes ja siihen osallistuu neljä elektroniikkayritystä: Mikrolli Oy, Incap Electronics Oy, Jutron Oy ja Tellabs Oy. Projekti kuuluu ETX-ohjelmaan ja se on käynnistynyt keväällä 1998.

Tässä raportissa on esitetty tilastollisen prosessinohjauksen perusteita ja menetelmiä lähtien tiedonkeruusta aina analysoitujen tietojen esittämiseen. Menetelminä käsitellään vuokaavioita, syy-seurausdiagrammeja, FMEA-analyysiä, valvontakortteja, histogrammeja, Pareto-menetelmää ja hajontadiagrammeja. Myöhemmissä raporteissa tullaan käsittelemään myös erilaisia ohjelmallisia SPC-työkaluja.

Kokoelmat